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解密,靶材在真空电镀中的应用

点击量:599  更新时间:2019/10/18

随着时代的发展,为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求,在表面处理工艺上,真空电镀已经成为环保新趋势。与一般的电镀不同,真空电镀更加环保,同时,真空电镀可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。

真空电镀基本是一种物理沉积现象,既是在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。而在这电镀的过程中,靶材是至关重要的存在,那么靶材在真空电镀过程中的应用有哪些?今天小编就详细为大家介绍一下。

通常情况下,靶材在真空电镀中的应用具有以下几个特点:

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。

(9)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。

(10)靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及有效率。

以上就是小编为大家总结的,靶材在真空电镀中的应用的一些特点了,作为新兴科技产物,靶材的出现是在表面处理工艺上一次大的进步。
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